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化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP
化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)CMP簡(jiǎn)介：1. 該化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)可用于各類半導(dǎo)體集成電路、氧化物、金屬、STI、SOI等產(chǎn)品的CMP平坦化拋光。通過(guò)更換拋光頭可兼容4、6、8...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 17:04:26 對(duì)比

化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)拋光機(jī)機(jī)械拋光機(jī)MCF
劃片機(jī)
精密劃片機(jī)，劃片機(jī)簡(jiǎn)介：半導(dǎo)體晶圓、集成電路、QFN、發(fā)光二極管、LED芯片、太陽(yáng)能電池、電子基片等的劃切，適用于包括硅、石英、陶瓷、氧化鋁、氧化鐵、砷化鎵、鈮...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:50:42 對(duì)比

劃片機(jī)精密劃片機(jī)激光劃片機(jī)
CMP后清洗機(jī)
CMP后清洗機(jī) 簡(jiǎn)介：該系列設(shè)備是晶圓CMP后的專用清洗設(shè)備，有單工位、轉(zhuǎn)位式、連線式等不同結(jié)構(gòu)，以適用不同應(yīng)用場(chǎng)景，其中連線式設(shè)備加配全自動(dòng)上下片系統(tǒng)。該系列...
型號(hào)： customize... 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:48:45 對(duì)比

CMP后清洗機(jī)干法清洗設(shè)備干法工藝設(shè)備 G＆P
減薄機(jī)
減薄機(jī) 簡(jiǎn)介：1. 可根據(jù)客戶需求定制化各類工作臺(tái)，滿足各類半導(dǎo)體材料的研削薄化工藝2. 最大晶圓尺寸：8英寸3. 砂輪規(guī)格：Ø203(OD)mm4....
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:35:54 對(duì)比

半導(dǎo)體組裝與封裝減薄機(jī)夢(mèng)啟
半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)
半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)是一款操作簡(jiǎn)單的桌面型單面拋光設(shè)備，可搭配銅盤、錫盤、玻璃盤、不銹鋼盤等，配合不同類型的拋光液，適用于各種半導(dǎo)體材料的研磨拋光，滿足科研院校、企...
型號(hào)： customize... 所在地：德國(guó) 參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:28:32 對(duì)比

半導(dǎo)體研磨拋光機(jī)半導(dǎo)體研磨機(jī)拋光機(jī)化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)
中央供藥系統(tǒng)
中央供藥系統(tǒng)簡(jiǎn)介：1.用于廠內(nèi)供藥，通過(guò)該系統(tǒng)可以按照設(shè)定的配比，將特定的藥液通過(guò)相應(yīng)的管路供應(yīng)到制程中。2.該系統(tǒng)供藥配比精確，配方可根據(jù)客戶需要進(jìn)行編輯確認(rèn)...
型號(hào)： customize... 所在地：蘇州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:19:03 對(duì)比

中央供藥系統(tǒng)供藥系統(tǒng)智程
全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī)
全自動(dòng)SCRUBBER清洗機(jī) 簡(jiǎn)介：?清洗機(jī)可以用于對(duì)晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過(guò)創(chuàng)新研發(fā)的二流體噴嘴技術(shù)可將附著在晶圓表面的細(xì)微顆粒污染物去除。通過(guò)大...
型號(hào)： customize... 所在地：上海市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 16:07:41 對(duì)比

全自動(dòng)清洗機(jī)濕法清洗設(shè)備 customized
紫外線臭氧清洗機(jī)
UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過(guò)滑動(dòng)抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半...
型號(hào)： UV-300H 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:39:31 對(duì)比

紫外線臭氧清洗機(jī)UV-300H SAMCO
紫外線臭氧清洗機(jī)
UV-1是一款緊湊型臺(tái)式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺(tái)加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC...
型號(hào)： UV-1 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:30:45 對(duì)比

紫外線臭氧清洗機(jī)UV-1 SAMCO
全自動(dòng)CMP拋光機(jī)
全自動(dòng)CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的全自動(dòng)拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過(guò)更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用自動(dòng)化裝片方式，機(jī)械手自動(dòng)取放片，同...
型號(hào)： TPC-2110 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:27:31 對(duì)比

拋光
等離子清洗設(shè)備
PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染。該工藝室允許用戶安裝多個(gè)電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的...
型號(hào)： PC-300 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:27:23 對(duì)比

等離子清洗設(shè)備 PC-300 SAMCO
CMP拋光機(jī)
CMP拋光機(jī)是一款針對(duì)薄膜（介質(zhì)層）的拋光設(shè)備，操作便捷，兼容性強(qiáng)，通過(guò)更換拋光壓頭實(shí)現(xiàn)不同尺寸晶圓的兼容，采用手動(dòng)裝片方式，可配置半自動(dòng)loading系統(tǒng)，氣...
型號(hào)： TMP-150A/... 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:23:56 對(duì)比

拋光機(jī)
cmp拋光機(jī)
POLI-400Lcmp拋光機(jī)是4&6英寸小型化學(xué)機(jī)械拋光機(jī)，采用手動(dòng)裝片方式，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、STI、SO...
型號(hào)： POLI-400L 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:17:26 對(duì)比

拋光機(jī)
CMP拋光機(jī)
POLI-500是小型8英寸CMP機(jī)臺(tái)，采用手動(dòng)裝片方式，可選配半自動(dòng)loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、S...
型號(hào)： POLI-500 所在地：北京市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:16:20 對(duì)比

CMP
CMP拋光機(jī)
POLI-762是小型12英寸CMP機(jī)臺(tái)，采用手動(dòng)裝片方式，可選配半自動(dòng)loading托盤，氣囊薄膜柔性加壓，可配置摩擦力&溫度終點(diǎn)監(jiān)控系統(tǒng)，用于氧化物、金屬、...
型號(hào)： POLI-762 所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:15:12 對(duì)比

拋光機(jī)
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備
LSA 101 激光尖峰退火設(shè)備系統(tǒng)安裝的 IDM 和晶圓代工廠，是大批量制造 40nm 至 140nm 節(jié)點(diǎn)的先進(jìn)邏輯器件的技術(shù)。LSA 101 的掃描技術(shù)...
型號(hào)：所在地：國(guó)外參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 15:13:03 對(duì)比

退火爐激光退火
離子注入機(jī)
離子注入機(jī)是高壓小型加速器中的一種，應(yīng)用數(shù)量最多。它是由離子源得到所需要的離子，經(jīng)過(guò)加速得到幾百千電子伏能量的離子束流，用做半導(dǎo)體材料、大規(guī)模集成電路和器件的離...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:25:56 對(duì)比

離子注入機(jī)離子注入設(shè)備離子注入愛發(fā)科 ULVAC
快速退火爐RTP
快速退火爐RTP主要功能：快速熱退火，快速熱氧化，快速熱氮化，擴(kuò)散，化合物半導(dǎo)體退火，離子注入后退火，電極合金化等。樣片尺寸：8inch，向下兼容，支持不規(guī)整樣...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:21:08 對(duì)比

快速退火爐RTP 快速退火爐退火爐 UNITEMP 尤尼坦
電鍍?cè)O(shè)備
電鍍?cè)O(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：Pillar，Bump，RDL，TSV等工藝 (3) 設(shè)備配置：最多3個(gè)loadport ; 最多24個(gè)電鍍腔體：Cu、Ni、Sn/Ag、...
型號(hào)： customize... 所在地：蘇州市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:17:52 對(duì)比

電鍍?cè)O(shè)備
激光退火設(shè)備
半導(dǎo)體激光退火機(jī)是用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一種設(shè)備。退火是一種熱處理過(guò)程，通過(guò)加熱半導(dǎo)體材料來(lái)改變其性質(zhì)，以實(shí)現(xiàn)所需的特性，如電導(dǎo)率、晶體結(jié)構(gòu)和應(yīng)力緩解。半導(dǎo)體激...
型號(hào)： customize... 所在地：深圳市參考價(jià)：面議更新時(shí)間：2024/9/6 14:14:17 對(duì)比

激光退火設(shè)備退火爐華卓精科 customized

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